某半导体材料制作业制造业企业因晶圆擦洗工艺程序出现含氨化工废水，水流量200吨/天。化工废海里除氧化还原电位外还含带氟化物和微量分析天价属，除理高难度大。偏远地区排放量标准请求氧化还原电位＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废水处理含量及来源于 晶圆的洗涤污废水 （其主要源）：含氟化物200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀多种工序电镀废水：含微量分析铜、镍等高价属，pH值浮动大 CMP研磨抛光焦化废水：含硅颗粒物及氧化还原电位 净化处理工艺技术工作流程 用到"化学物质发展+膜剥离 +折点氯化"整合鑫霖环保： 预整理 ：添加CaCl2除氟，掌控pH在7.5-8. 反渗透膜程序 ：弄掉0.01μm左右颗粒状物 反渗透设备性精浓 ：将氟化物提液至1000mg/L上面的 折点氯化 ：精确性操控氯添加量，将氧化还原电位流量转化为N2 亚铁离子交互 ：保障机制高价属未达标 既定效率 挥发酚稳固＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 血本属量高出监测限 水使用率达75% 污泥干化制造量少40%