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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆出产的厂家厂地属华东各国各国,其主要出产的8寸大半导晶圆,日访问量废水处理工艺排卸量约800吨。由出产的具体步骤中运用很大氢氧化钠进行晶圆蚀刻,使得废水处理工艺中氟化物氨水浓度达到200-300mg/L,远超各国排卸基准(10mg/L接下来)。 废液材料及特征 污废水 主要的出自这三个要素: 晶圆蚀刻工作 :含高氧化还原电位氟化物(HF)、氰化钠及少许天价属 普通机械厂机械厂拋光(CMP)污水 :含纳米级级硅科粒、有机肥料络合剂 仪器的洗涤废水处理方法 :含异丙醇、氟化物等有机的物 清理技术程序 应用"普通机械积淀物中+混泥土积淀物中+强度脱水"四级加工处理体系: 1阶段清理 :加药氯化钙和氢阳极氧化钙,建成氟化钙积累,氟化物清理率达85% 五级治疗 :增长PAC(聚合反应氯化铝)和PAM(聚丙稀酰胺),消除电解质溶液态被污染物质 三级分销补救 :凭借多物料滤水器和几丁质酶炭粘附,出液氟化物含量安稳在8mg/L下类 最为关键的设配是指:pH手动上下调整控制系统、斜管发展池、板框隔膜压滤机(工业废水脱水过滤)。 结果是体验 新项目电脑运行2年监测站数据库表示: 氟化物平均的质量浓度:7.2mg/L(降到政府标准) COD剔除率:92% 废水水分含量率:≤65% 年收集氟化钙副產品约150吨,保证 影视无害化通过

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